Chiều ngày 11/3/2025, tại Viện Công nghệ Thông tin, Đại học Quốc gia Hà Nội, seminar với chủ đề “The Road to Gate-All-Around and Its Impact on Analog Design” đã diễn ra thành công với sự tham gia của hơn 50 chuyên gia, nhà nghiên cứu và sinh viên trong lĩnh vực vi mạch và bán dẫn. Chương trình đặc biệt có sự góp mặt của Alvin Loke, chuyên gia hàng đầu đến từ hãng Intel, Silicon Valley, Hoa Kỳ, mang đến những chia sẻ sâu sắc về xu hướng công nghệ transistor mới nhất.
Mở đầu bài giảng, Alvin Loke đã dẫn dắt người tham dự qua một hành trình từ quá khứ đến hiện tại của công nghệ transistor, từ MOSFET truyền thống đến FinFET và nay là Gate-All-Around (GAA). Với sự phát triển không ngừng của công nghệ bán dẫn, GAA đang được xem là giải pháp tối ưu để tiếp tục cải thiện hiệu suất và mật độ transistor khi quy trình sản xuất tiến tới mức 2nm và thấp hơn.
Không chỉ dừng lại ở lý thuyết, diễn giả cũng đi sâu vào những thách thức đặt ra cho thiết kế mạch analog khi công nghệ CMOS ngày càng thu nhỏ. Ông nhấn mạnh rằng, dù FinFET đã mang lại nhiều cải tiến về hiệu suất, nhưng việc chuyển sang GAA đòi hỏi những thay đổi đáng kể trong thiết kế mạch, đặc biệt là với các hệ thống analog và mixed-signal. Những vấn đề về độ nhiễu, điện dung ký sinh, và quản lý dòng điện là những bài toán lớn mà các kỹ sư thiết kế vi mạch cần giải quyết trong thời gian tới.
Bên cạnh đó, Alvin Loke cũng giới thiệu về công nghệ nanoribbon/nanosheet, nền tảng cốt lõi của kiến trúc GAA, giúp cải thiện hiệu suất mà vẫn giữ được khả năng kiểm soát dòng điện vượt trội so với FinFET. Ông cũng đề cập đến chiến lược tích hợp không đồng nhất (heterogeneous integration) như một hướng đi quan trọng để tận dụng những lợi ích của công nghệ mới, giúp hệ thống vi mạch có thể duy trì hiệu suất cao mà vẫn tối ưu hóa chi phí sản xuất.
Buổi seminar không chỉ là cơ hội để tiếp cận những kiến thức tiên tiến mà còn là dịp để các nhà nghiên cứu, giảng viên và sinh viên đặt câu hỏi và thảo luận trực tiếp với chuyên gia. Nhiều câu hỏi xoay quanh khả năng ứng dụng công nghệ GAA vào thiết kế vi mạch tại Việt Nam, cũng như những xu hướng mới trong ngành công nghiệp bán dẫn, đã được đặt ra. Một nghiên cứu sinh tham dự nhận xét: “Buổi seminar giúp tôi hiểu rõ hơn về những thách thức và cơ hội của công nghệ Gate-All-Around. Những kiến thức này rất cần thiết cho những ai đang theo đuổi lĩnh vực thiết kế vi mạch.”
Với hơn 20 năm kinh nghiệm trong lĩnh vực vi mạch, Alvin Loke không chỉ mang đến những kiến thức chuyên sâu mà còn chia sẻ nhiều góc nhìn thực tiễn về ngành công nghiệp bán dẫn. Hiện tại, ông là Senior Principal Engineer tại Intel, San Diego, đồng thời là một thành viên tích cực của IEEE Solid-State Circuits Society (SSCS). Ông đã có hơn 70 công bố khoa học và từng nhận ISSCC 2024 Outstanding Forum Speaker Award vì những đóng góp xuất sắc trong nghiên cứu và giảng dạy.
Sự kiện lần này đã để lại nhiều dấu ấn quan trọng, góp phần kết nối cộng đồng nghiên cứu vi mạch trong nước với những chuyên gia quốc tế. Trong bối cảnh công nghệ bán dẫn ngày càng đóng vai trò quan trọng trong các ngành công nghiệp hiện đại, những seminar như thế này không chỉ mang đến kiến thức cập nhật mà còn mở ra cơ hội hợp tác và phát triển trong tương lai.
